產品資訊 /產業設備/曝光設備 / Wafer曝光機 (Mask Aligner)

產品詳細介紹


[概要]

本機採用原創UV光學設計，實現高解析度曝光，並能精準平行對位 Photo Mask與 Ｗafer。

本全自動曝光機支援三種間隙控制模式，分別為「真空接觸（Vacuum Contact）」、「輕接觸（Soft Contact）」及「近接間隙（Proximity Gap）」。

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